Banca de DEFESA: VALESKA LISANDRA DE MENEZES

Uma banca de DEFESA de DOUTORADO foi cadastrada pelo programa.
DISCENTE: VALESKA LISANDRA DE MENEZES
DATA: 29/04/2022
HORA: 14:00
LOCAL: https://meet.google.com/rnm-yrzo-wvw
TÍTULO: Emissão de gases de efeito estufa associada a processos de fabricação de superfície seletiva solar a base de cromo
PALAVRAS-CHAVES: ACV, Superfície Solar Seletiva, Eletrodeposição, Magnetron Sputtering
PÁGINAS: 114
GRANDE ÁREA: Engenharias
ÁREA: Engenharia Mecânica
RESUMO: As superfícies seletivas solares (SSS) aumentam a absorção da radiação solar e reduzem as perdas térmicas por emissão, e algumas etapas de seu ciclo de vida necessitam de grandes quantidades de energia, inclusive térmica. Considerando as preocupações com as mudanças climáticas, este trabalho tem como objetivo quantificar e comparar as emissões de gases de efeito estufa (GEE) associadas a obtenção de superfícies seletivas solares (SSS) de coletores solares com aplicação do Cromo Negro (Cr x O y ). Para mapear a estrutura do campo de conhecimento foi feita uma revisão bibliométrica e de redes utilizando o software VosViewer. Utilizou-se a metodologia da Avaliação de Ciclo de Vida e o método de avaliação de impacto ambiental IPCC 2013 GWP 100a. A partir de dados experimentais obtidos nos laboratórios LABFILM e LACOM (UFPB) estudaram-se duas técnicas de deposição (Sputtering e Eletrodeposição). As avaliações foram feitas em processos de fabricação que apresentaram SSS com absortividade superior a 90%. Quatro tipos de tratamento de substrato foram considerados. O estudo é pioneiro na construção de inventários a partir da fabricação de SSS, quantificando e comparando as emissões de GEE para esses processos de fabricação no Brasil. As emissões das SSS fabricadas por Sputtering foram 25,7g CO 2 -eq/processo com tratamento de substrato por eletropolimento. As emissões de estudos comparativos de eletrodeposição foram 5,1g e 4,4 g CO 2 - eq/processo para o banho 1 e banho 2, respectivamente. Considerando eletrodeposições comparando diferentes tratamentos de substrato, as emissões foram 1,0 2,7 12,9 e 49,79g CO 2 -eq/processo, respectivamente para hexano, ácido cítrico, eletropolimento, e tratamento térmico. Quando o Sputtering foi realizado com tratamento de substrato com isopropanol, hexano e eletropolimento, as emissões foram 15,2 7,2 e 19,1g CO 2 -eq/processo. A limpeza de substrato por tratamento térmico foi o responsável pela maior porção de emissões, devido ao uso intenso de eletricidade. Observou-se que os filmes depositados em substratos eletropolidos apresentaram as maiores absorções solares (≥ 95%), porém emissões mais altas que os tratamentos com hexano, álcoACV, Superfície Solar Seletiva, Eletrodeposição, Magnetron Sputtering, Cromo Negro.ol isopropílico e ácido cítrico.
MEMBROS DA BANCA:
Externo à Instituição - ANDRÉA OLIVEIRA NUNES
Externo à Instituição - CARLOS EDUARDO KEUTENEDJIAN MADY
Interno - 2015851 - DANIELLE GUEDES DE LIMA CAVALCANTE
Presidente - 1731152 - KELLY CRISTIANE GOMES DA SILVA
Interno - 1991228 - MONICA CARVALHO